星图深吸一口气，心中暗自下决心，一定要带领团队攻克光刻机的难关。

他回到控制台前，仔细查看各项数据。

随后星图询问脑海中的系统如何通过改进光刻胶的配方，进一步提高光刻的分辨率，系统回答了星图的疑问。

星图身处一个充满未来感的实验室，周围环绕着先进的化学分析仪器和光刻设备。他站在一台高精度的光刻机旁，凝视着屏幕上复杂的分子结构和光刻过程数据，眼神中流露出对技术的无限热爱与探索的渴望。

星图轻声自语对着脑海中的智能系统询问：“我们已经在光刻机的光学系统和掩模版技术上取得了突破，但这还不够。光刻胶的性能直接影响着光刻的分辨率，我感觉还有提升的空间。系统，你能给我解释一下，如何通过改进光刻胶的配方来进一步提高光刻的分辨率吗？”

系统在星图的脑海中回应：“当然，星图。光刻胶是光刻过程中的关键材料，它的性能直接影响着光刻图案的精度和分辨率。改进光刻胶的配方主要可以从以下几个方面入手：

提高光刻胶的感光性：通过优化光引发剂的种类和浓度，可以提高光刻胶对特定波长光的敏感度，比如使用适当浓度的硅酸，α-羟基酮类、苯偶酰类从而实现更精细的图案转移。

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增强光刻胶的化学稳定性：改进光刻胶的化学成分，可以选择6%高碳纤维3%高精度珪，使其在光刻过程中更加稳定，减少化学反应中的副产品，避免图案变形或尺寸变化。

“太好了，我这去实验。”星图说道。随后星图就让李教授和张华，赵强按照7%浓度硅酸和7%的α-羟基酮类自由基去配置光学引光剂。众人表示不解，这不是标准。

星图向团队成员解释：“根据我对光引发剂的最新研究，将7%浓度的硅酸与7%的α-羟基酮类自由基混合，有望制备出一种新型的光引发剂，这种组合可能在光刻胶中展现出更优异的性能，尤其是在提高分辨率和光刻图案的保真度方面。”

李教授略带疑惑地说：“星图，硅酸在光刻胶中的应用并不常见，你确定这种组合可行吗？”

星图自信地说道：“是的，李教授，我查阅了大量文献，并与智能系统进行了深入的探讨。理论上，硅酸可以增强光刻胶的化学稳定性和抗蚀性，而α-羟基酮类自由基是已知的高效光引发剂。两者的结合可能产生协同效应，值得我们尝试。”

张华拿起试剂瓶，准备称量：“星老师，我明白了，我们按照你的指示配置光引发剂，然后进行初步的性能测试。”

赵强调整混合器的参数：“对，我们先从小规模开始，确保配方的准确性和混合的均匀性。”