华生实验室是ICM最顶尖的实验室，出过很多着名科学家和诺贝奖获得者。

林博士除了在1975年做出了深紫外线（DUV）以外，还创造出了包括1微米、0.75微米、0.5微米在内的好几项光刻技术。

当然，最厉害的是他在1986年提出的关于浸润式微影技术的想法，目前世界上只有他的技术叫‘浸润式’，就是水泡着的那个‘浸润’，其他的技术全都是没有水的‘干式微影技术’。

我跟你说，浸润式才是以后的大势所趋，现在世界上才刚出第二代I线光刻机，暂时还看不出。

等发展到第三代DUV光刻机、还有第四代EUV光刻机的时候，全世界必须采用林博士的浸润式技术，除此以外，别的路都行不通。

小主，

所以我才说，有了林博士，我们能领先世界三十年。”

赵德彬的形容一点也不夸张，林本间是深紫外线DUV的发明人，而后世中夏想买也买不到的极紫外线EUV光刻机，也是基于林本间的‘浸润式光刻技术’研制出来的。

在赵德彬的世界当中，目前，光刻机光源波长在止步于193纳米上，再也没有办法下降，但摩尔定律要继续发展，193纳米这个瓶颈必须要打破。

这是因为，光刻机的光就像刻刀一样在硅片上雕刻电路，当你的芯片越来越小，你的刻刀也必须变小变薄，这就跟不能拿屠龙刀在米粒上雕花是一个道理。

不过，在1991年还不用太愁这个事，目前，实验室里的最先进的芯片制程是0.5微米，也就是500纳米，而193纳米光源波长的极限是在65纳米的制程以下，这中间少说还有十来年的时间可以想办法。

于是，整个90年代，搞光刻机的最顶尖那撮人，就为了这事犯愁，大家八仙过海、各显神通，捣鼓了好几年，总算是在90年代末期形成了两个路子：

霓康等巨头主张在193纳米的基础上，采用157纳米的F2激光；

而刚成立的EUV LLC联盟口气很大，一上来就要搞EUV技术，用仅有13.5纳米的极紫外光解决这个问题。

这两个方法都很难，但第二个方法基本上就是吹牛逼，对比之下，还是第一个方法靠谱，所以，大家都把希望寄托在157纳米的波长上面，很多公司都投入了重金搞研发，希望能早点做出157纳米的波长抢占市场。

虽然行业中已经达成了共识，但林本间却不这么想。

早在1986年，林本间在研究中发现，当前的微影技术已经进入了瓶颈，很难再向下发展，他提出了一个“浸润微影技术”，并在这个技术上研究了多年。

林本间认为，既然157纳米的波长难做，那干脆就不做，只需要维持着193纳米的波长，在镜头和光刻胶之间加一层水，经过水的折射，光线波长就可以从193纳米变成132纳米，一举突破157纳米的天堑。

这层水，也就是“浸润”这个名字的由来。

传统的技术，就是镜头直接面对晶圆，镜头和晶圆中间只是空气。

虽说林本间从1986年就开始研究浸润式微影技术，但在早期，还有很多方法可用，并不一定需要浸润式这把牛刀，所以浸润式一直是一个冷门的技术，基本上没有引起外界的关注；

浸润式真正引起轰动的是在2002年，当时，关于193纳米下不去这事已经火烧屁股了，林本间受邀到比立时参加“国际微影讨论会”，在会上再次提出浸入式技术，并发表了浸润式设备及操作的示意图。

这一下可捅马蜂窝了，本来，大家都在讨论157纳米干式微影技术上，没想到突然杀出来一个林本间，说加一层水就从能从193纳米变132纳米。

解决问题不是最重要的，最重要的是做量产机器的厂商愿意投入才行。

本来，巨头们已经在157纳米光刻机研发上投入了不下十亿丑元，甚至还有厂商已经建好了157纳米镜头材料的工厂了。

此时告诉他们，“干式微影没得搞，还是来搞浸润式吧”，这就相当于花出去的大笔经费都打水漂了。

一时间，浸润式技术遭到了铺天盖地的反对和质疑。

此时，林本间已经去到了湾积电工作，有一些巨头还朝着湾积电施压。

张中谋还是很有眼光的，他不仅没有压制林本间，还很支持他的方案。

于是，林本间带着自己的方案，在丑国、倭国、德意治等国来回奔波，花了一年多的时间，愣是没能说服一个厂商合作。

林本间上门其实是很讨人嫌的，可他就像看不到别人的白眼，被拒绝了也不放弃，针对巨头们的需求和顾虑，不断地优化浸润式方案，一次又一次上门推销，这让各大厂商不堪其扰。

一家公司甚至直接写信给林本间的上司蒋上义，要求他“管管林本间，让他收敛点，不要出来搅局，不要再来扰乱我们的研究进展和专注方向”。

大多数的厂商都对林本间的方案将信将疑，甚至还有厂商表示坚决不用这项技术。

只有合兰的AMSL认为林本间的浸润式要比157纳米的干式靠谱，愿意和林本间合作。

这其实也并不是AMSL的眼光多么超群，只是因为当时的AMSL在国际上还算不上大个，根本就没有实力随大流，研究不了先进的157纳米的光源，林本坚的方案对他们来说就是一个意外之喜，搏一搏，万一单车能变摩托呢？