第51章 光刻机的启动

他调整好曝光参数,确保激光能够精确地照射到硅片上,形成所需的图案。

随着曝光的进行,时瑞阳的心跳也逐渐加快。

他紧紧地盯着光刻机,观察着硅片上的变化。

当曝光完成,他长舒了一口气,他知道,这只是一个开始,接下来的步骤更加复杂和困难。

接下来,时瑞阳将硅片放入显影机中。显影是光刻过程的重要环节,它能够将曝光后形成的图案显现出来。

时瑞阳启动显影程序,显影液开始作用,将曝光区域的光刻胶溶解,露出硅片上的图案。

然而,在显影过程中,时瑞阳发现显影液的效果并不理想。他皱起眉头,思考着解决办法。

他回忆起之前的学习和经验,尝试调整显影液的浓度和温度。经过一番努力,他终于找到了问题所在,并成功解决了显影效果不佳的问题。

他的脸上再次露出了满意的微笑,他知道,他已经迈过了第二个难关。

显影完成后,时瑞阳将硅片取出,放入蚀刻机中。

蚀刻是将硅片上的图案转移到硅片上的过程。

时瑞阳调整好蚀刻参数,确保蚀刻过程能够精确地进行。

随着蚀刻的进行,硅片上的图案逐渐显现出来,时瑞阳的内心充满了喜悦。

他知道,他已经迈过了第三个难关,离成功又近了一步。

然而,他并没有因此而放松警惕。

他知道,在芯片制造的过程中,每一个环节都可能出现问题,他必须时刻保持警惕,以确保每一个环节都能够顺利进行。

他继续密切观察着蚀刻过程,直到蚀刻完成。

当蚀刻完成后,时瑞阳将硅片取出,检查其上的图案。